В рамках форума пройдет круглый стол «Перспективы создания оптических материалов и резистов для передовых литографических технологий». Мероприятие организуется на базе секции №13 «Материалы микро- и наноэлектроники, диагностика материалов и элементов электронной компонентной базы» Научной конференции «ЭКБ и электронные модули».
Модераторами круглого стола выступят доктор физико-математических наук (Институт структурной макрокинетики и проблем материаловедения), член-корреспондент РАН Дмитрий Рощупкин и доктор технических наук Валерий Бокарёв (Научно-исследовательский институт молекулярной электроники).
Организаторы мероприятия поставили задачу обсудить перспективы налаживания в России производства материалов для изготовления фотошаблонов и оптических элементов степперов, а также резистов.
Сейчас развитие современной микро- и наноэлектроники, миниатюризация во многом определяются развитием литографических процессов. Для совершенствования данных процессов критическими являются два направления. Для фотолитографических процессов и наностеперов важным является поиск перспективных материалов для создания фотошаблонов и оптических элементов. Если для процессов с длинами волн 200–250 нм возможно использование синтетического кварца, то на длинах волн менее 200 нм необходимо уже применение фторидов. В обоих случаях стоит задача получения особо чистых материалов, так как примеси влияют на пропускание оптического излучения. Следует отметить, что важным является, скорее всего, использование монокристаллов с совершенной кристаллической структурой, так как дефекты (двойники, включения и др.) приводят к рассеянию оптического излучения. Насущной задачей является и поиск исходного природного сырья.
В свою очередь, для процессов формирования топологии с использованием перспективных литографических процессов необходимыми материалами являются резисты. Сегодня в стране ведутся разработки перспективных резистов для процессов фотолитографии, электронно-лучевой, ионно-лучевой и рентгеновской литографии, наноимпринтинга.
Выступить на круглом столе приглашены ведущие специалисты Научно-исследовательского института молекулярной электроники, Института проблем точной механики и управления РАН, Федерального исследовательского центра проблем химической физики и медицинской химии РАН, ООО «Поликетон», Южного федерального университета, Института физики твердого тела РАН.
Ранее сообщалось, что российский форум «Микроэлектроника 2025» пройдет 21–27 сентября 2025 года на территории Научно-технологического университета «Сириус» в Сочи.
