При производстве микросхем фотошаблон нужен для нанесения рисунка на тонкую пластину материала. Он представляет собой тонкую плёнку с рисунком, который соответствует необходимой схеме на поверхности кремниевой пластины. Более 75 % всех выпускаемых сейчас фотошаблонов высокого разрешения изготавливаются именно с помощью лазерной литографии – метод нанесения изображения на поверхность материала с помощью сфокусированного лазерного луча.
«Мы импортозамещаем американские лазеры Coherent на 257 нанометров, и все оборудование и фоторезисторы заточены под эту длину волны. Аналогов в России нет, потому что это узкоспециализированные лазеры», – сказал собеседник ТАСС.
Программно-аппаратный комплекс включает в себя лазер, который задаёт основную энергию в 10–30 милливатт, и волоконный усилитель, увеличивающий мощность лазера до 15 ватт. Внутрь системы также установлен специальный кристалл, который используется для преобразования частоты лазерного света. «Получается дополнительная генерация», – пояснил представитель компании.
Сейчас разработчиками создан предсерийный прототип для испытаний на белорусском предприятии электронной промышленности «Планар», занимающемся производством наиболее массовых микросхем, где используются и другие изделия компании. Особенность разработанной системы в её малом энергопотреблении – один ватт энергии.
Ранее «Телеспутник» писал, что российский производитель микроэлектроники «Микрон» (входит в ГК «Элемент») успешно тестирует первый высокочувствительный фоторезист отечественного производства для техпроцессов 90 нм.
