Об этом корреспонденту «Телеспутника» рассказал руководитель специальных проектов АО «Микрон» Юрий Чеботарев. Беседа состоялась после семинара «Микросхемы АО «Микрон». Новые продукты и перспективные разработки», который прошел в Санкт-Петербурге 26 сентября.
«Для независимости отечественной полупроводниковой отрасли важно сначала разработать, выпустить и освоить фотолитограф на 350, а потом на 180-90 нм (нанометров, — ред.)», — отметил Чеботарев.
По его словам, при разработке фотолитографа «Микрон» будет участвовать в совместных экспериментальных работах с ЗНТЦ с постановкой технологического процесса.
«Проект ЗНТЦ и “Планара” нужно довести до серийного выпуска, состыковать с нашими технологическими возможностями, с нашим оборудованием. Работы много, но база уже есть», — пояснил Чеботарев.
Суть соглашения, которое заключили на форуме «Микроэлектроника 2024», состоит в совместном освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования с нормами 350-90 нм на территории Российской Федерации.
Фотолитограф — важнейшее оборудование в техпроцессе, предназначенное для формирования структуры микросхемы на кремниевой пластине, покрытой слоем фоторезиста — полимерного светочувствительного материала. В России сейчас самыми современными технологиями являются 180 и 90 нм.
Ранее мы писали о том, что «Микрон» (входит в ГК «Элемент») и Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), ведущий российский исследовательский центр в области технологий и оборудования микроэлектроники, будут совместно осваивать технологию и производство фотолитографического оборудования с нормами 350-90 нм. Об этом говорится в долгосрочном соглашении о сотрудничестве, которое было подписано на форуме «Микроэлектроника 2024».
_6a7c27019eb23.jpg)
