В рамках соглашения планируются работы по постановке технологии производства отечественного оборудования и обеспечению им производственных площадок, проведение совместных исследований, экспериментальных работ и тестирования установок фотолитографического и электроннолучевого оборудования, оборудования контроля привносимой дефектности на собственных производственных площадках, а также организация программ обучения и стажировок специалистов.
«Актуальная задача для микроэлектроники сегодня — развитие электронного машиностроения и технологий, прежде всего фотолитографии. Производство фотолитографа требует мощнейшего научного потенциала, в мире менее 10 стран, способных его производить, в их числе и Россия. В рамках сотрудничества с "Микроном" планируются совместные исследования, экспериментальные работы и тестирование фотолитографического оборудования с топологическими нормами 350-90 нм, разрабатываемого совместно с белорусским ОАО "Планар"», — отметил генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев.
«Фотолитография — ключевая операция в микроэлектронике. Оборудование, которое мы будем осваивать совместно с ЗНТЦ, предназначено для выпуска чипов с топологическими нормами до 350 нм, которые используются в силовой электронике, автоэлектронике и промышленных системах. Импортозамещение оборудования — необходимое условие обеспечения технологического суверенитета», — сказала генеральный директор АО «Микрон» Гульнара Хасьянова.
Ранее «Телеспутник» писал, что производитель микроэлектроники «Микрон» и ведущее предприятие по разработке, корпусированию и тестированию микроэлектронной продукции GS Nanotech (входит в холдинг GS Group) выпустили очередную партию RISC-V микроконтроллеров MIK32 «Амур». Кристаллы микросхем произведены на «Микроне», сборка в корпус осуществлена на мощностях GS Nanotech в Калининградской области. 100 тысяч микроконтроллеров MIK32 «Амур» успешно прошли входной контроль и будут отгружены в соответствии с текущими контрактами производителям и разработчикам приборов и аппаратуры.
