«В России <...> предусмотрено создание техники, материалов, химических веществ, инструментов проектирования электроники с учётом потребности наших предприятий. В приоритете здесь должно быть и повышение конкурентоспособности нашей российской литографии», — пояснил Михаил Мишустин отметив, что делегация правительства в ходе своего визита в Национальный центр физики и математики в Сарове ознакомилась с темпами создания отечественных литографов.
Глава правительства также обратил внимание, что в России на сегодняшний день действует программа по развитию фотоники, которая рассчитана до конца 2030 года. На данный момент в рамках неё ведётся работа по организации выпуска матричных фотоприемных устройств и модернизация серийного производства.
Напомним, в 2024 году российский производитель микроэлектроники «Микрон» (входит в ГК «Элемент») и Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) заявили о планах по осваиванию технологии и производства фотолитографического оборудования с нормами 350-90 нм.
