Автором изобретения стал руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев.
Фоторезист — полимерный светочувствительный материал, неотъемлемый компонент процесса производства печатных плат, который наносится для получения окон доступа травильных и гальванических растворов в соответствии с фотошаблоном. После завершения технологического процесса оставшийся фоторезист удаляется с помощью разработанного раствора.
По словам заместителя генерального директора по инновациям Владимира Потапенко, к поиску собственного решения для удаления фоторезиста подтолкнули санкции, заблокировавшие поставки спецхимии из Европы и США. Когда импортный состав закончился, применять уже известные альтернативы не предприятии не захотели:
«Да, мы могли откатиться назад и заменить раствор устаревшим процессом на основе минеральной щелочи. Однако риски производить брак были велики, так как такой состав травит олово, сильно окисляет медь и неприменим для комбинированного метода изготовления печатных плат. Массовый брак был бы неизбежен», — приводят слова Андрея Алкаева в официальном Телеграм-канале компании.
В результате за две недели был разработан раствор, обеспечивающий стабильно высокий результат: быстрое удаление фоторезиста, щадящее взаимодействие с материалами подложки (оловом и медью), повышение антикоррозионных свойств платы, исключение пенообразования в процессе использования. В описании к изобретению также отмечается повышенная эффективность и работоспособность разработанного состава по сравнению с существующими аналогами: одним и тем же количеством можно обработать большую площадь или количество печатных плат. Состав для удаления фоторезиста готовится из концентрата, в который добавляется заданное количество воды.
В компании отметили, что стоимость изготовления раствора собственного производства в разы ниже, чем использование аналогичных импортных решений, включая китайские.
Ранее сообщалось, что у производителя есть планы обеспечить разработанными растворами всю отрасль.
